투과전자현미경은 주로 시료의 내부구조나 단면을 관찰하는데 쓰이고 있다. 원리는 광학현미경과 비슷하다. 전자현미경에서의 광원은 높은 진공 상태(1x10-4 이상)에서 고속으로 가속되는 전자선으로 이 전자선이 표본을 투과하여 형광판이나 사진필름에 초점을 맞추어 투사된다. 이 전자의 파장은 가
electrostatic field을 거쳐 형광판이나 사진필름에 초점을 맞추어 투사된다. 전자현미경의 확대율과 해상력이 뛰어난 장점을 이용하여 TIN의 결정구조를 관찰하였다.
두 번째로 SEM (scanning electron microscope)의 경우, 전자가 표본을 통과하는 것이 아니라 초점이 잘 맞추어진 전자선 electron beam을 표본의 표면
현미경 column의 맨 위쪽에 위치
필라멘트, shield, anode등으로 구성된 전자총과 집광렌즈로 구성
- Tungsten ( Hair Pin 형), LaB6형, Field Emission (FE) 형 등의 전자총 (Electron Gun)을 장착하여 발생된 전자선을 여러 단계에 걸쳐서 가속관에서 가속시킴
specimen manipulation system
시편은 Cu로 만들어진 grid에 부착
1. 주사전자현미경(SEM)이란?
전자현미경은 빛의 속도로 이동하는 전자의 파동성을 이용한 전자가속기로서 전자빔과 전자기렌즈를 이용하여 촛점을 형성한다. 가속전압은 대개 60-100 keV이고 illumination source로서는 텅스텐으로 만든 필라멘트를 사용하는데, 이를 전자총 (electron gun)이라고 부른다. 전자총
Ⅰ. 서 론
요즘 우리사회에서는 제4차 산업으로 인하여 최대 관심사인 유비쿼터스란 말을 많이 사용하고 있다. 실지로 우리사회에 유비쿼터스(Ubiquitous) 시대가 도래 하였다. 전처럼 MP3를 목에 메거나 소지하는 것이 아니라, 이제 MP3를 입고 다니면서 음악을 감상하고, TV를 보면서 건강검진을 받을 수
SEM은 주사전자 현미경으로서 고체 상태의 미세조직과 형상을 관찰하는데 매우 유용하게 사용되는 분석기기 중 하나이다. 기존의 광학현미경의 최대 확대배율은 1,500배이다. 이 값이상은 해상능(Resolution)이라고 하는 렌즈(빛)의 성질에 의해 제한을 받는다. 분해능 (Resolution)은 illumination system의 파
1. SEM이란?
SEM은 주사전자 현미경으로서 고체 상태의 미세조직과 형상을 관찰하는데 매우 유용하게 사용되는 분석기기 중 하나이다. 기존의 광학현미경의 최대 확대배율은 1,500배이다. 이 값이상은 해상능(Resolution)이라고 하는 렌즈(빛)의 성질에 의해 제한을 받는다. 분해능 (Resolution)은 illumina
Liquid Chromatography- Mass Spectrometry
Used for many applications which has very high sensitivity and selectivity
LC
Separation technique in which the mobile phase
is a liquid
MS
Detector
in chromatography to provide
both qualitative and quantitative
ESI and MALDI
ESI and MALDI are methods for introducing elute from liquid chromatography into a mass spectrometer
1. 이론 및 원리
1.1. 크로마토그래피
1.1.1. 크로마토그래피의 정의 1-[1]
크로마토그래피(chromatography)란 다공성 흡착제 입자를 일정한 길이만큼 충전시킨 관(column)에 용질이 들어 있는 혼합물을 통과시켜 흡착제 입자에 대한 용질의 흡착 특성 차이에 근거하여 분리하는 방법이다. 즉, 시간이 지나
3. Requirements of EUV resist
EUV is highly absorbed by all materials, even EUV optical components inside the lithography tool are susceptible to damage, mainly manifest as observable ablation. Such damage that is associated with the high-energy process of generating EUV radiation is a new concern specific to EUV lithography .
EUVL's shorter wavelength also increases flare, resulting in less